シリコンフォトニクスデバイスの研究開発試作体制を構築産総研とTIA推進センター

摘要

産業技術総合研究所電子光技術研究部門とTIA推進センターは、産総研で開発した世界最先端のシリコンフォトニクス技術を普及させるため、民間だけでなく大学等の幅広いューザーが利用可能な国内初のシリコンフォトニタスデバイスの試作体制を構築した。加工精度に優れる300ミメーリトルウエハープロセスを利用した研究開発用の公的シリコンフォトニクス試作体制としては世界で唯一のもの1た。