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【24h】

世界初、技術開発に成功: 東北大、東京エレクトロンが共同研究 次世代デバイスMRAM実用化に道

机译:世界上第一个成功的技术开发:东北大学和东京电子联合研究之路,下一代设备MRAM的实际使用

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摘要

東北大学原子分子材料科学高等研究機構 (AIMR) および流体科学研究所 (IFS) の寒川誠二教授らの研究グループはこのほど、次世代のデバイスとされるMRAM (磁気抵抗メモリー) の実用化に道を拓く技術として、酸化と金属錯体反応を同時に実現する装置を開発、これまで困難であった遷移金属ゃ磁性体膜の高精度で超低損失なェツチングに世界で初めて成功した。JST (科学技術振興機構) 復興促進センターで実施されている復興促進プログラム (マッチング促進) における研究課題「次世代超低損傷微細加工プロセス用大口径中性粒子ビーム源の闘発」による成果で、今後、宮城県に生産体制を持つ東京エレクトロンでMRAMの生産技術が実用化されれば、被災地における事業創出や雇用創出どいつた効果が期待される。
机译:东北大学材料科学研究所(AIMR)和流体科学研究所(IFS)的Samukawa Seiji教授的研究小组最近为下一代设备MRAM(磁阻存储器)的实际应用铺平了道路。作为一项开创性技术,我们开发了一种可同时实现氧化和金属络合反应的设备,并成功实现了迄今为止尚难的世界上首次高精度,超低损耗的过渡金属或磁性膜蚀刻。日本科学技术振兴院恢复促进中心实施的恢复促进计划(配对促进)的研究项目“用于下一代超低损伤微细加工的大型中性粒子束源”的研究结果如果在宫城县拥有生产系统的东京电子公司实际使用MRAM的生产技术,则有望改善受灾地区的业务创造和就业创造。

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  • 来源
    《科学新聞》 |2014年第27期|4-4|共1页
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