机译:EUV面罩具有抗反射层
机译:使用碱性溶液和有机溶剂的混合物除去EUV掩模的Ru覆盖层的EUV暴露的烃
机译:湿法清洁过程中EUV掩模层上的颗粒粘附和去除
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:快速EUV光刻建模/仿真的进展以及在评估EUV掩模多层缺陷的不同修复方案方面的应用
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:ITO纳米粒子分散在SiO2减反射层中增强等离子硅太阳能电池的光伏性能
机译:氧等离子体对极紫外(EUV)掩模坯料Ru覆盖层化学组成和形貌的影响