EUV; DPS; FDTD; RCWA; multilayer defect compensation;
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:EUV投票制版光刻技术可减轻印刷掩模缺陷,改善CDU并减少随机故障
机译:快速EUV光刻建模/仿真和应用对EUV掩模多层缺陷的不同修复选项的推进
机译:用于光刻的DUV和EUV光掩模中非平面相和多层缺陷的快速仿真方法。
机译:使用iPSC进行疾病建模和基于细胞的治疗:快速安全应用的未来治疗选择
机译:利用光化学检测和快速模拟研究埋藏EUV掩模缺陷的可印刷性