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【24h】

米インテル 次世代半導体材料開発など アイルランド国立研究所 3年间で150万ドル投資

机译:英特尔美国下一代半导体材料开发等爱尔兰国家研究院在3年内投资了150万美元

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摘要

米インテルはこのほど、アイルランドのコーク大学に拠点を置くチンダル国立研究所での次世代半導体材料、デバイス、光学技術研究開発に今後3年間で150万ドルを投じると発表した。チンダル研究所は情報通信技術分野で欧州を代表する研究機関の一つで、インテルは09年から3年間ずつ2度にわたり投資を行ってきた。米オレゴン州ポートランドにあるインテルの国際研究部門と直接協力体制を構築しており、将来の電子デバイスに影響を及ぼし得る最先端の技術を研究している。
机译:英特尔最近宣布,它将在未来三年中,在位于爱尔兰科克大学的廷德尔国家实验室投资150万美元用于研发下一代半导体材料,器件和光学技术。廷德尔研究所是欧洲信息和通信技术领域的领先研究所之一,英特尔从2009年开始的三年中已投资了两次。我们直接与位于俄勒冈州波特兰的英特尔国际研究部合作,研究可能影响未来电子设备的尖端技术。

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  • 来源
    《电波新闻》 |2016年第16951期|2-2|共1页
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
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  • 入库时间 2022-08-17 23:53:18

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