机译:紫外线和原子氧侵蚀对聚酰亚胺总电子发射率的影响
State Key Laboratory of Electrical Insulation and Power Equipment, Xi'an Jiaotong University, Xi'an, China|c|;
Atomic oxygen (AO) erosion; polyimide (PI) film; total electron emission yield (TEEY); ultraviolet (UV) radiation effect;
机译:1 MeV电子照射对原子氧气表面腐蚀的协同作用
机译:一种聚硅氮烷涂层,可保护聚酰亚胺免受原子氧和真空紫外线辐射的侵蚀
机译:5 eV原子氧和172 nm真空紫外线的相对强度对聚酰亚胺侵蚀协同作用的影响
机译:二酰亚胺膜对原子氧照射二酰亚胺膜的影响
机译:表面科学中的两个主题:氧诱导镍铝Al(111)的形态变化;与极紫外光刻相关的钌和二氧化钛表面的二次电子产率研究。
机译:杂交填料组合物对聚酰亚胺纳米复合材料原子氧腐蚀性的影响
机译:能量电子和质子辐射对电子和光子诱导的聚酰亚胺电子排放产率的影响