机译:一种新型的氮化硅样薄膜低温等离子体沉积有机硅源
Department of Chemistry University of Bari via Orabona 4 70126 Bari Italy;
Department of Chemistry University of Bari via Orabona 4 70126 Bari Italy;
Department of Chemistry University of Bari via Orabona 4 70126 Bari Italy;
Institute for Inorganic Methodologies and Plasmas (IMIP) – CNR via Orabona 4 70126 Bari Italy;
FT-IR; inductively-coupled; plasma-enhanced chemical vapor deposition (PE-CVD); silicon nitride-like; XPS;
机译:从有机硅源中沉积碳氧化硅薄膜用于聚碳酸酯上光
机译:在低基板温度下通过等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积沉积的薄膜的机械和压阻特性
机译:碳化硅和碳氮化硅薄膜涂层的远程氢微波等离子体化学气相沉积中有机硅前体的反应性
机译:使用冷远程等离子体工艺使用有机硅薄膜的冷涂层的有机硅薄膜涂覆的材料的阻燃和热稳定性
机译:低介电常数有机硅基薄膜的化学气相沉积。
机译:直流和射频等离子体射流的大气压等离子体沉积有机硅薄膜
机译:通过直流和射频等离子体喷射器的有机硅薄膜的大气压等离子体沉积