机译:离子能量对基质分布电子回旋共振等离子体反应器中沉积的本征微晶硅层结构和电性能的影响
Laboratoire de Physique des Interfaces et des Couches Minces, Ecole Polytechnique, CNRS, 91128 Palaiseau, France;
Laboratoire de Physique des Interfaces et des Couches Minces, Ecole Polytechnique, CNRS, 91128 Palaiseau, France;
Laboratoire de Physique des Interfaces et des Couches Minces, Ecole Polytechnique, CNRS, 91128 Palaiseau, France;
Laboratoire de Physique des Interfaces et des Couches Minces, Ecole Polytechnique, CNRS, 91128 Palaiseau, France;
thin film structure and morphology; photoconduction and photovoltaic effects; nanocrystalline materials; chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.);
机译:通过使用SiF4 / H-2化学物质的基质分布电子回旋共振等离子体沉积微晶硅薄膜增强了化学气相沉积
机译:分布式电子回旋共振激发的微波多极等离子体反应器中沉积的a-C:H薄膜的电学性质研究
机译:射频等离子体化学气相沉积沉积的氢化微晶硅碳合金的结构特性:微晶硅籽晶层和甲烷流速的影响
机译:在集成的分布式电子回旋谐振粘合剂PECVD反应器中沉积微晶硅
机译:通过微波,傅立叶变换红外光谱和原子吸收光谱法确定的气相物质的绝对浓度与沉积在电子回旋共振反应器中的二氧化硅膜的特性相关。
机译:等离子体增强原子层沉积在低温下沉积的HfO2薄膜的结构光学和电学性质
机译:矩阵分布电子回旋共振等离子体高速沉积微晶硅薄膜和太阳能电池的工艺和材料挑战
机译:椭圆偏振研究电子回旋共振等离子体沉积硅薄膜的成核和生长。