机译:真空蒸镀Bi掺杂CuInS_2薄膜的结构,电学和光学性质
Department of Electrical Engineering, Miyakonojo National College of Technology, 473-1 Yoshio, Miyakonojo, Miyazaki 885-8567, Japan;
X-ray diffraction; doping and impurity implantation in other materials; composition and phase identification; other inorganic semiconductors; vacuum deposition;
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机译:CupbI(sub 3)蒸发薄膜的制备,电学和光学性质