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Vertical scanning white-light interference microscopy on curved microstructures

机译:弯曲微结构上的垂直扫描白光干涉显微镜

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摘要

Although white-light interferometers have become well-established tools for measuring smooth, rough, and micro-nstructured surfaces, there are some limitations in certain applications, e.g., if tilted surface areas or small radii ofncurvature are to be measured. Since the correction of chromatic aberrations is not perfect over the total field of viewnor the total pupil plane, dispersion differences occur for different ray paths of the microscopic imaging system. Theninfluence of these effects is discussed on the basis of the most commonly used Mirau interferometer, and the re-nsulting systematic measuring errors are explained. © 2010 Optical Society of America
机译:尽管白光干涉仪已经成为用于测量光滑,粗糙和微结构化表面的公认工具,但在某些应用中仍存在一些限制,例如,如果要测量倾斜的表面积或曲率的小半径。由于色差的校正在整个视场或整个瞳孔平面上都不完美,因此对于显微成像系统的不同光线路径会出现色散差异。然后在最常用的Mirau干涉仪的基础上讨论了这些影响的影响,并解释了重新导致的系统测量误差。 ©2010美国眼镜学会

著录项

  • 来源
    《Optics Letters》 |2010年第11期|p.1768-1770|共3页
  • 作者

    Peter Lehmann;

  • 作者单位

    Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Kassel,;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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