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机译:硅上Al_2O_3和AlHfO_x超薄氧化物的离子反向散射研究
Laboratory for Surface Modification and Department of Physics and Astronomy, Rutgers University, 136 Frelinghusen Rd. Piscataway, NJ-08854, USA;
rutherford backscattering spectroscopy (RBS); channeling; semiconductor devices; ultra-thin insulator; high-k materials; aluminum oxide; hafnium oxide; atomic layer deposition (ALD);
机译:超薄伪二元氧化物(TiO_2)_x(Al_2O_3)_(1-x)薄膜作为高κ栅极电介质的研究
机译:新型环形静电光谱仪的反向散射电子光谱测定超薄膜的厚度
机译:原子层沉积制备的超薄Al_2O_3薄膜的纳米摩擦学行为
机译:SR-XPS光谱表征超薄Al_2O_3 / SiO_2 / Si薄膜
机译:银(001)和银(111)上超薄外延铬和氧化铁膜的生长和结构:通过X射线光电子衍射和低能电子衍射完成的综合研究。
机译:超薄氧化物/氧化物异质外延薄膜的X射线光谱学:以单纳米VO2 / TiO2为例
机译:超薄氧化物/氧化物异质外延薄膜的X射线光谱:单纳米VO2 / TiO2的案例研究