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机译:非平衡磁控溅射与等离子体离子注入的混合工艺改善工具钢上TiN膜的附着力
University of Hyogo, Graduate School of Engineering, 2167 Shosha, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan;
UBM; PBII; TiN; adhesive strength; interfacial mixing layer; Ti plasma;
机译:纳米晶金刚石膜的插入和沉积过程中的氢气添加,以改善通过不平衡磁控溅射法沉积的立方氮化硼薄膜的附着力
机译:非平衡磁控溅射与等离子体浸没离子注入混合技术制备类金刚石碳梯度膜
机译:利用近场不平衡磁控溅射碳膜改善304不锈钢的耐蚀性和导电性
机译:通过不平衡磁控溅射优化DLC膜的工艺以改善激光损伤阈值
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:在CIGS太阳能电池中,磁控溅射沉积双层钼薄膜的粘附性改进及表征