装置プラットフォームを一新液浸とeuv で11nmまで対応

摘要

2009年は，業界で既に強い地位を築 いた液浸ArF露光装置のビジネスをさら に伸ばしていく。NAND型フラッシュ・ メモリーでは50～40nm世代，DRAM では50nm世代，ロジックLSIでは45nm 世代への微細化が進んでいる。いずれ においても液浸装置の引き合いは強い。 2008年に，われわれの液浸装置の出荷 台数は，前年比で1.7倍に伸びた。