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【24h】

450mm装置開発の加速を狙ぃ推適派が性能の目標値を詏定

机译:为了加速450mm器件的开发,倡导者设定了目标性能指标

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摘要

450mmウェーハへの移行に向けて,米IntelrnCorp.,韓国Samsung Electronics Co.,Ltd.,rn台湾Taiwan Semiconductor ManufacturingrnCo.,Ltd.(TSMC)の推進派3社が,次の手に打rnって出た(図1,図2)。450mm化の取り組みをrn実践する米International SEMATECH Manu-rnfacturing Initiative(ISMI)を通じ,450mm対rn応装置の性能指標「Equipment PerformancernMetrics(EPM)」を装置メーヵーに提供し始めrnた。
机译:为了向450mm晶圆过渡,美国的Intelrn公司,韩国的三星电子有限公司和台湾的台湾半导体制造有限公司(TSMC)这三个推进公司采取了下一步措施。 (图1,图2)。通过实施450mm方法的美国国际SEMATECH制造计划(ISMI),我们已开始为设备制造商提供450mm至rn设备的性能指标“设备性能指标”(EPM)。

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