Intel やTSMC が装置メーカーに出資450mm ウエハーやEUV 露光の実用化を急ぐ

摘要

450mm ウエハーやEUV（extreme ultravio-let）露光といった次世代の半導体製造技術を巡る動きが、にわかに活発になってきた。2012年7月、露光装置最大手のオランダASML 社は、これらの技術の開発を、半導体メーカーから総額約1300 億円の支援を受けて進めると発表。併せて、同社株式の最大25%を顧客企業向けに発行し、資本参加を受け入れる計画を明らかにした。