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Nanoholes by soft UV nanoimprint lithography applied to study of membrane proteins

机译:纳米孔通过软紫外纳米压印光刻技术应用于膜蛋白的研究

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摘要

In this paper, we present an alternative technique to the well-known electron beam lithography in order to realize nanoholes in the silicon substrates for biological applications. The used technique is soft UV nanoimprint lithography (UV-NIL). We optimized the fabrication of silicon based supports obtained by soft UV-NIL and reactive ion etching to carry out very large arrays of nanoholes. The resolution limits are investigated when using poly(dimethylsiloxane) as flexible mold material. RIE conditions are initiated to limit the lateral mask resist etch.
机译:在本文中,我们提出了一种众所周知的电子束光刻技术的替代技术,以便在生物应用的硅基板中实现纳米孔。使用的技术是软UV纳米压印光刻(UV-NIL)。我们优化了通过软UV-NIL和反应离子刻蚀获得的硅基支撑物的制造,以执行非常大的纳米孔阵列。当使用聚二甲基硅氧烷作为柔性模具材料时,研究了分辨率极限。启动RIE条件以限制横向掩模抗蚀剂蚀刻。

著录项

  • 来源
    《Microelectronic Engineering》 |2009年第6期|583-585|共3页
  • 作者单位

    Institut d'Electronique Fondamentale (IEF) CNRS UMR 8622, Universite Paris-Sud XI, Centre d'Orsay, Batiment 220, 91405 Orsay cedex, France;

    Institut d'Electronique Fondamentale (IEF) CNRS UMR 8622, Universite Paris-Sud XI, Centre d'Orsay, Batiment 220, 91405 Orsay cedex, France;

    Institut d'Electronique Fondamentale (IEF) CNRS UMR 8622, Universite Paris-Sud XI, Centre d'Orsay, Batiment 220, 91405 Orsay cedex, France;

    Institut d'Electronique Fondamentale (IEF) CNRS UMR 8622, Universite Paris-Sud XI, Centre d'Orsay, Batiment 220, 91405 Orsay cedex, France;

    Institut d'Electronique Fondamentale (IEF) CNRS UMR 8622, Universite Paris-Sud XI, Centre d'Orsay, Batiment 220, 91405 Orsay cedex, France;

    Institut d'Electronique Fondamentale (IEF) CNRS UMR 8622, Universite Paris-Sud XI, Centre d'Orsay, Batiment 220, 91405 Orsay cedex, France;

    Institut Curie CNRS UMR 168, 26 rue d'Ulm, 75248 Paris cedex, France;

    Institut d'Electronique Fondamentale (IEF) CNRS UMR 8622, Universite Paris-Sud XI, Centre d'Orsay, Batiment 220, 91405 Orsay cedex, France;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    nanoimprint; lithography; UV-NIL; PDMS; RIE;

    机译:纳米压印;光刻UV-NIL;PDMS;RIE;

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