机译:具有面内主轴的三维亚毫米弯曲硅微结构的多步蚀刻
Universite Paris-Est, ESYCOM (EA 2552), UPEMLV, ESIEE-Paris, CNAM, F-93162 Noisy-le-Grand, France,Si-Ware Systems, 3 Khaled Ibn El-Waleed Street, Heliopolis, Cairo, Egypt;
Si-Ware Systems, 3 Khaled Ibn El-Waleed Street, Heliopolis, Cairo, Egypt,Electron. and Comm. Eng. Dept., Faculty of Eng., Ain-Shams University, 11 Elsarayat Street, Abbassia, Cairo, Egypt;
Si-Ware Systems, 3 Khaled Ibn El-Waleed Street, Heliopolis, Cairo, Egypt;
Universite Paris-Est, ESYCOM (EA 2552), UPEMLV, ESIEE-Paris, CNAM, F-93162 Noisy-le-Grand, France,Si-Ware Systems, 3 Khaled Ibn El-Waleed Street, Heliopolis, Cairo, Egypt;
Batch fabrication; Curved microstructures; Inductively-coupled plasma; Multi-step etching; Three-dimensional fabrication;
机译:基于深反应离子刻蚀的硅高级刻蚀,用于硅高纵横比微结构和三维微纳结构
机译:利用离子辐照制备复杂的弯曲三维硅微结构
机译:三维微探针阵列的多步骤电化学刻蚀工艺
机译:铝板多步电化学蚀刻制造的三维微结构
机译:在微机电系统的高密度等离子体源中干法蚀刻高纵横比的硅微结构。
机译:各向异性多步蚀刻用于在不锈钢上大面积制造表面微观结构以控制热辐射
机译:柔性电子产品:高度可制造的深(亚毫米)蚀刻使能高纵横比复杂几何乐高硅电子(小型2017年)