...
机译:沉积后退火对富HHfSiO_x栅介质的n-GaN MOS电容器特性的影响
Shibaura Inst Technol Koto Ku 3-7-5 Toyosu Tokyo 1358548 Japan|Natl Inst Mat Sci Int Ctr Mat Nanoarchitecton WPI MANA 1-1 Namiki Tsukuba Ibaraki 3050044 Japan;
Natl Inst Mat Sci Int Ctr Mat Nanoarchitecton WPI MANA 1-1 Namiki Tsukuba Ibaraki 3050044 Japan;
Shibaura Inst Technol Koto Ku 3-7-5 Toyosu Tokyo 1358548 Japan;
Nagoya Univ Inst Mat & Syst Sustainabil Nagoya Aichi 4648601 Japan;
HfO2/SiO2 laminate; Hf0.64Si0.36Ox dielectric; GaN capacitor; Plasma-Enhanced ALD; N-2 annealing;
机译:使用单能正电子束研究HfSiO_x和HfAlO_x栅极电介质中开放体积的退火特性
机译:沉积后退火对HfO_2 / SiO_2栅介质堆叠MIS结构电学特性的影响
机译:高压氢气后沉积退火制备的LaAlO_3栅电介质的电学特性
机译:TMA和H
机译:对用于下一代MOS栅极电介质的氧化锆和氮结合的氧化锆的电气,材料和可靠性特性以及工艺可行性的评估。
机译:沉积后退火对以H2O和O3为氧化剂的ZrO2 / n-GaN MOS电容器的影响
机译:H2O和O3作为氧化剂的ZrO2 / N-GaN MOS电容器在ZrO2 / N-GaN MOS电容器上的影响