Techno-Akrobatik an den letzten Gestaden der Lichtoptik-Die EMC 2004 erforscht die Grenzen der optischen Lithografie

摘要

Die ungebremste Miniaturisierung in der Mikroelektronik verlangt ihren Tribut. So sucht die Halbleiterindustrie händeringend nach innovativen Fotomasken, die den immer komplexeren und kompakteren Strukturen gerecht werden. Die damit verbundenen technologischen Herausforderungen standen im Brennpunkt der von der VDE/VDI-Gesell-schaft Mikroelektronik, Mikro-und Feinwerktechnik vom 12. bis 14. Januar in Dresden veranstalteten internationalen Fachtagung > 20th European Mask Conference on Mask Technology for Integrated Cir-cuits and Micro-Components (EMC 2004) < , die von mehr als 170 Teilnehmern besucht und vom sächsischen Minister für Wirtschaft und Arbeit, Dr. Martin Gillo, eröffnet wurde.