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机译:以原子层沉积Al_2O_3作为栅介质的GaN金属氧化物半导体场效应晶体管
School of Electrical and Computer Engineering and Birck Nanotechnology Center, Purdue University, West Lafayette, IN 47907, USA;
aluminium oxide; gallium nitride; metal-oxide-semiconductor structures;
机译:原子层沉积的AI_2O_3和(Ta_2O_5)_(0.12)(Al_2O_3)_)0.88)栅极电介质在CaN包覆的AIGaN / GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管特性上的比较
机译:原子层沉积AI_2O_3的比较和(TA_2O_5)_(0.12)(AL_2O_3)_)0.88)栅极电介质对CAN-LAPPEAGAN / GAN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管的特性
机译:以原子层沉积Al_2O_3作为栅介质的GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管
机译:具有原子层沉积的Al_2O_3栅极介电层的InAs沟道金属氧化物半导体HEMT
机译:纳米N沟道和P沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的超薄氧化物和氮化物/氧化物堆叠的栅极电介质研究
机译:AlGaN / GaN金属-氧化物-半导体高电子迁移率晶体管中作为栅极电介质的氧化镓膜的原子层沉积
机译:具有原子层沉积HfalO作为栅介质的Gasb金属氧化物半导体电容器