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机译:溅射压力对射频磁控溅射动态沉积铝掺杂ZnO薄膜性能的影响
1: Department of Materials Science and Engineering, Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Xili, Shenzhen 518055, China 2: Research Institute of Tsinghua University in Shenzhen, No 7 GaoXinNan Road, Shenzhen 518057, China;
RF magnetron sputtering; Photovoltaics; Photoconductivity; Pressure; Dynamic deposition; AZO thin films;
机译:后退火对射频磁控溅射沉积在玻璃基板上的掺镓ZnO薄膜的结构和纳米力学性能的影响
机译:原位退火对射频磁控溅射沉积铝掺杂ZnO薄膜性能的影响
机译:氧气压力对射频磁控溅射沉积(ZnO)_3ln_2O_3薄膜的结构,电和热电性能的影响
机译:RF磁控溅射溅射压力沉积抗氮锌薄膜性能研究
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:RF磁控溅射溅射压力沉积抗氮锌薄膜性能研究