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机译:脉冲激光沉积表征ZnO-In_2O_3透明导电膜
Department of Telecommunications, Takuma National College of Technology, 551 Kouda, Takuma, Mitoyo, Kagawa 769-1192, Japan;
A. thin films; B. laser deposition; C. X-ray diffraction; D. electrical properties;
机译:氩的引入对脉冲激光沉积ZnO-In_2O_3薄膜结构和透明导电性能的影响
机译:脉冲激光沉积制备的p型透明导电Ni1-Xruxo(0 <= <= 0.1)膜的合成与表征
机译:脉冲激光沉积制备高导电透明Al掺杂CdO薄膜及其表征
机译:通过脉冲激光沉积制备的透明导电CuCr_(1-x)Mg_xO_2膜
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:脉冲激光沉积法制备纳米工程透明导电氧化物
机译:通过焦耳加热脉冲激光沉积的Ga掺杂透明氧化锌膜的研制