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机译:全氧化物层上(110)和(001)取向外延Pb(Zr0.52Ti0.48)O-3薄膜的铁电和压电响应缓冲硅
SolMateS BV, NL-7522 NB Enschede, Netherlands.;
Hanoi Univ Sci & Technol, ITIMS, Hanoi 10000, Vietnam.;
Univ Twente, MESA Inst Nanotechnol, IMS, NL-7500 AE Enschede, Netherlands.;
Hanoi Univ Sci & Technol, ITIMS, Hanoi 10000, Vietnam.;
SolMateS BV, NL-7522 NB Enschede, Netherlands.;
Univ Twente, MESA Inst Nanotechnol, IMS, NL-7500 AE Enschede, Netherlands.;
Univ Twente, MESA Inst Nanotechnol, IMS, NL-7500 AE Enschede, Netherlands.;
Thin films; Epitaxial growth; Laser deposition; Piezoelectricity; Ferroelectricity;
机译:高(001)取向Pb(Zr0.52Ti0.48)O-3薄膜在非晶TiN缓冲Si(100)上的生长和电性能
机译:通过沉积条件和纳米片缓冲层在玻璃上控制Pb(Zr0.52Ti0.48)O-3膜中的压电响应
机译:SrRuO_3缓冲SrTiO_3衬底上(001)-,(110)-和(111)取向的Pb(Fe_(1/2)Nb_(1/2))O_3外延薄膜的结构
机译:Si(001)上的压电外延溶胶-凝胶Pb(Zr0.52Ti0.48)O3薄膜
机译:外延铁电薄膜的压电特性的取向依赖性。
机译:通过极化旋转描述硅上(001)和(110)取向(PbMg1 / 3Nb2 / 3O3)2 / 3-(PbTiO3)1/3薄膜的外延特性
机译:外延Srruo3薄膜沉积在SRO缓冲-Si(001)基板上的铁电PB(Zr0.2Ti0.8)O3薄膜