机译:通过在Si(111)衬底上沉积的TiO_2(金红石)层上Ga_2O_3膜氨化来合成GaN纳米棒
Institute of Semiconductor, Shandong Normal University, No. 88 East Culture Road, Ji'nan 250014, China;
epitaxial growth; crystal growth; GaN; nanorods; TiO_2;
机译:通过氨化沉积在Si(111)衬底上的Mg层上的Ga_2O_3膜来合成径向排列的GaN纳米棒
机译:通过氨化沉积在Si(111)衬底上的MgO层上的Ga_2O_3膜来制备针状GaN纳米线
机译:通过氨化沉积在Si(111)衬底上的Ga_2O_3 / Cr薄膜来合成和表征GaN纳米线
机译:ZnO膜在(0001)A1_2O_3和(111)Si衬底上沉积的ZnO膜通过MOCVD用作缓冲层的ZnO薄膜生长的GaN层
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:在Si(111)衬底上生长的GaN纳米棒和激子定位
机译:具有各种缓冲层的(111)Si基材的GaN膜中穿线脱位的演变
机译:(0001)和(0112)蓝宝石衬底上GaN薄膜物理性质的比较