机译:以离子液体为刻蚀剂的光辅助电化学刻蚀制备的多孔GaN光电极
Chinese Acad Sci, Suzhou Inst Nanotech & Nanobion, Suzhou 215123, PR, Peoples R China|Univ Chinese Acad Sci, Beijing, Peoples R China;
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Corrosion; Porous materials; Semiconductors; GaN; Photoelectrode;
机译:紫外线和室内光对多孔GaN薄膜使用光辅电化学蚀刻的影响
机译:在通过电化学和光电化学蚀刻相结合的多孔GaN模板上生长的GaN膜和GaN / InGaN发光二极管的电学和结构特性
机译:在通过电化学和光电化学蚀刻相结合的多孔GaN模板上生长的GaN膜和GaN / InGaN发光二极管的电学和结构特性
机译:一种偏见持续时间对MSM光电探测器的新两步交流光辅助电化学蚀刻(ACPEC)技术制造的多孔Si结构性能的影响
机译:光电化学刻蚀制备的柱状多孔碳化硅的形成与表征。
机译:光辅助化学蚀刻后通过退火沉积的GaN基薄膜LED表面的纳米棒
机译:光辅助电化学刻蚀形成的GaN多孔纳米结构的结构与光电化学性质之间的相关性