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机译:通过交替逐层生长和沉积后退火合成钨掺杂二氧化钒薄膜
Sookmyung Womens Univ Coll Sci Dept Phys Seoul 04310 South Korea|Sookmyung Womens Univ Inst Adv Mat & Syst Seoul 04310 South Korea;
Sookmyung Womens Univ Coll Sci Dept Phys Seoul 04310 South Korea|Sookmyung Womens Univ Inst Adv Mat & Syst Seoul 04310 South Korea|Sookmyung Womens Univ Coll Engn Dept Appl Phys Seoul 04310 South Korea;
Vanadium dioxide thin films; Tungsten-doping; Metal-insulator transition; Sputtering; Post-deposition annealing;
机译:玻璃基材上钨掺杂二氧化钒薄膜的快速热退火辅助溶液方法
机译:将热致铬钨掺杂的二氧化钒薄膜直接转移到柔性聚合物基材上
机译:硼硅玻璃上掺钨的二氧化钒薄膜,用于智能窗户应用
机译:生长后退火对LP CVD生长的二氧化钒薄膜相变参数的影响
机译:使用低压化学气相沉积对III-氮化物薄膜的合成与表征III族氮化物薄膜传感应用
机译:六方氮化硼薄片作为可转移衬底上二氧化钒薄膜的生长
机译:前体剂量和停留时间对二氧化钒薄膜通过原子层沉积的生长速率和均匀性的影响