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机译:MOCVD法制备的Au / PZT / Pt / Al_2O_3 / SiO_2 / Si薄膜的不对称磁滞回线和漏电流行为
Wacom R&D Co., Ltd, 568 Tanaka, Fukaya shi, Saitama 369-1108, Japan;
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Department of Chemistry and Chemical Engineering, Yamagata University, Yonezawa-Yamagata 992-8510, Japan;
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PZT films; Pt bottom electrode; Au top electrode; P-V hysteresis; J-V characteristics; work function; asymmetric;
机译:结晶热处理对低温金属有机化学气相沉积法生长PZT薄膜磁滞回线和漏电流的影响
机译:基于迟滞环参数相关分析的基于LANDAU理论的SOL-GEL和MOCVD PZT薄膜疲劳机理验证
机译:溅射法制备Au / Al_2O_3薄膜的线性和飞秒光学非线性性质
机译:MOCVD法制备Pt / Al_2O_3 / SiO_2 / Si / PZT / Au结构中不对称滞后环和漏电流行为的研究
机译:使用MOCVD制备的硫化锌:锰磷光体层的AC薄膜电致发光器件的制备和性能。
机译:溶胶-凝胶法制备的PZT / BFO多层薄膜的铁电性能
机译:Bi3.25LA0.75TI3O12薄膜的铁电性能和漏电流特性通过聚合物前体法制备