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机译:使用自溅射射频驱动等离子体源在高纵横比沟槽中使用共形金属薄膜涂层
Lawrence Berkeley National Laboratory, University of California, Berkeley, California 94720;
机译:电沉积金以共形填充高纵横比纳米硅光栅沟槽:脉冲协议和直流协议的比较
机译:衬底偏置对远程等离子溅射涂覆工艺的影响,以保形覆盖沟槽和3D结构
机译:使用超临界流体在高纵横比三维结构上的超共形金属涂层:可控制的选择性/非选择性
机译:磁滤场对大型射频驱动负氢离子源等离子体均质性的影响
机译:大萨德伯里地区的黑岩涂层:含金属的水合二氧化硅,是人为二氧化硅引起的化学风化的产物
机译:ALD金属氧化物转化制得的极高折射率过渡金属双硫属化物光子保形涂层
机译:基板偏置对远程等离子体溅射涂布过程的影响,用于沟槽和3D结构的保形覆盖