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机译:用X射线光电子能谱,低能电子衍射和光电子发射显微镜研究氧化oxide修饰的W(100)
Department of Electrical and Electronic Engineering, Muroran Institute of Technology, 27-1 Mizumoto-cho, Muroran, Hokkaido 050-8585, Japan;
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Department of Electrical and Electronic Engineering, Muroran Institute of Technology, 27-1 Mizumoto-cho, Muroran, Hokkaido 050-8585, Japan;
机译:Pt(100)上的外延BaTiO_3(100)膜:低能电子衍射,扫描隧道显微镜和X射线光电子能谱研究
机译:氧化钇修饰的W(100)的极低功函数表面的X射线光电子能谱和低能电子衍射分析
机译:钼酸锆改性(100)表面的X射线光电子能谱和低能电子衍射分析
机译:X射线光电子体光谱和氧化铑在还原条件下的氧化铑衍射表征
机译:通过X射线光电子衍射,扫描隧道显微镜和低能电子衍射研究了外延氧化铁在铂(111)上的生长。
机译:第八届工业流体特性模拟挑战的吸附X射线衍射光电子和原子发射光谱基准研究
机译:使用介电势垒放电对Ge(100)表面进行等离子体氧化,通过亚稳态感应电子光谱,紫外光电子光谱和X射线光电子光谱研究
机译:通过X射线光电子衍射,扫描隧道显微镜和低能电子衍射研究铂(111)上外延氧化铁的生长