机译:制作具有微和纳米图案表面浮雕的台面,用作步进和印记平版印刷术的工作印章
Laboratory for Micro- and Nanotechnology, Paul Scherrer Institut, 5232 Villigen PSI, Switzerland;
Laboratory for Micro- and Nanotechnology, Paul Scherrer Institut, 5232 Villigen PSI, Switzerland;
VTTInformation Technology, 02044 VTT, Finland;
Micro Resist Technology GmbH, Koepenicker Str. 325, 12555 Berlin, Germany;
Laboratory for Micro- and Nanotechnology, Paul Scherrer Institut, 5232 Villigen PSI, Switzerland;
机译:使用分步和压印压印光刻技术制作镍压模
机译:消除干涉光刻中的咬边现象,以制造纳米压印光刻印章
机译:通过结合NIL和光学光刻工艺制作具有微米和纳米级图案的3D印模
机译:通过UV步骤和印模印记光刻方法压印50nm的特征
机译:具有成本效益的压印模板制造,用于分步和快速压印光刻。
机译:用于微接触印刷的低成本无光刻的印模制造
机译:通过pDms印模热压印在双弯曲pmma表面上制备纳米结构
机译:食品券计划:已采取措施增加工作家庭的参与,但需要更好地跟踪努力;向国会报告