机译:超低k相容性二氧化碳原位光刻胶灰化过程的机理研究。一,工艺性能及其对ULK材料改性的影响
Materials Science & Engineering and Institute for Research in Electronics and Applied Physics, University of Maryland, College Park, Maryland 20742;
rnMaterials Science & Engineering and Institute for Research in Electronics and Applied Physics, University of Maryland, College Park, Maryland 20742;
rnMaterials Science & Engineering and Institute for Research in Electronics and Applied Physics, University of Maryland, College Park, Maryland 20742;
rnITC-irst, via Sommarive 18, 38050 Povo Trento, Italy;
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