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机译:掠入射X射线荧光和二次离子质谱联用表征硅中超浅砷的分布
CMM-Irst, Fondazione Bruno Kessler, via Sommarive 18, 38123 Povo, Trento, Italy;
CMM-Irst, Fondazione Bruno Kessler, via Sommarive 18, 38123 Povo, Trento, Italy;
CMM-Irst, Fondazione Bruno Kessler, via Sommarive 18, 38123 Povo, Trento, Italy;
Atominstitut, Technische Universitaet Wien, Stadionallee 2, 1020 Wien, Austria Stanford Synchrotron Radiation Lightsource, 2575 Sand Hill Road, Menlo Park;
Atominstitut, Technische Universitaet Wien, Stadionallee 2, 1020 Wien, Austria;
Atominstitut, Technische Universitaet Wien, Stadionallee 2, 1020 Wien, Austria;
Atominstitut, Technische Universitaet Wien, Stadionallee 2, 1020 Wien, Austria;
Physikalisch-Technische Bundesanstalt, Abbestrasse 2-12, 10587 Berlin, Germany;
Physikalisch-Technische Bundesanstalt, Abbestrasse 2-12, 10587 Berlin, Germany;
机译:超低能硼注入剂通过非氧化二次离子质谱分析和软X射线掠入射X射线荧光技术表征硅
机译:动态二次离子质谱法与全反射X射线荧光分析法测定砷超浅连接的无损剂量和深度分析
机译:联合评估掠入射X射线荧光和X射线反射率数据,以改善超浅深度分布的轮廓
机译:使用组合的放牧入射X射线荧光和X射线反射测量法的纳米级层系统的无参考深度表征
机译:通过飞行时间二次离子质谱,基质辅助激光解吸质谱和X射线光电子能谱表征新型聚合物。
机译:联合评估掠入射X射线荧光和X射线反射率数据以改善超浅深度分布的轮廓
机译:联合评估掠入射X射线荧光和X射线反射率数据,以改善超浅深度分布的轮廓
机译:仪器结合X射线光电子能谱和二次离子质谱进行表面研究