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机译:使用感应耦合等离子体蚀刻工艺的氮化硅纳米模板制造
Centre de Recherche en Nanofabrication et en Nanocaracterisation (CRN~2), Universite de Sherbrooke, Sherbrooke, Quebec, J1K 2R1, Canada;
Centre de Recherche en Nanofabrication et en Nanocaracterisation (CRN~2), Universite de Sherbrooke, Sherbrooke, Quebec, J1K 2R1, Canada;
Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL), UMR-CNRS 5270, INSA de Lyon, 7 Avenue Jean Capelle, 69621 Villeurbanne Cedex, France;
Centre de Recherche en Nanofabrication et en Nanocaracterisation (CRN2), Universite de Sherbrooke, Sherbrooke, Quebec, J1K 2R1, Canada;
Centre de Recherche en Nanofabrication et en Nanocaracterisation (CRN2), Universite de Sherbrooke, Sherbrooke, Quebec, J1K 2R1, Canada;
机译:电感耦合等离子体反应离子刻蚀制备多孔硅表面的简单快速方法
机译:利用感应耦合等离子体和体硅刻蚀工艺制造沟槽宽度和深度的应用装置
机译:Cl_2 / O_2 / Ar电感耦合等离子体刻蚀硅的同时刻蚀和沉积工艺
机译:电感耦合等离子体刻蚀法制备Ⅲ族氮化物波导
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:使用各向同性电感耦合等离子体蚀刻的硅纳米尖端批量制造
机译:使用感应耦合等离子体蚀刻工艺的氮化硅纳米模板制造
机译:电感耦合等离子体(ICp)干蚀刻中三氯化硼/氯气体分子外延生长p型氮化铝镓的刻蚀特性及表面分析