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机译:电子束写入光栅的多光束干涉光刻
Laboratory for Micro and Nanotechnology, Paul Scherrer Institute, 5232 Villigen PSI, Switzerland;
机译:软X射线各种线间距光栅使用电子束光刻写入相位掩模制造禁区全能
机译:不变空间多光束消色差EUV光刻
机译:使用基于光栅的多束干涉光刻对二维纳米尺度特征进行构图
机译:具有电子束光刻制造的凹陷蚀刻光栅结构的准1维电子波干扰晶体管
机译:用于多束电子束光刻的薄膜栅极光阴极。
机译:使用电子束光刻写入的相位掩模通过近场全息术制造的软X射线变化线间隔光栅
机译:电子束手写光栅的多光束干涉光刻