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机译:研究由于光学和极紫外掩模制造工艺的相互作用而导致的覆盖误差
Computational Mechanics Center, University of Wisconsin—Madison, 1513 University Avenue, Madison, Wisconsin 53706;
机译:使用极紫外反射法评估极紫外掩模的Ta和Ta基吸收剂的光学指数
机译:极端紫外光刻中考虑掩模误差过程敏感性的掩模临界尺寸规格
机译:用于在极紫外光下处理掩模引起的临界尺寸误差的制造设计
机译:极紫外光刻掩模中图像放置错误的调查
机译:预测由于光学和EUV光刻制造工艺的相互作用而导致的器件晶圆上的覆盖错误
机译:勘误表:HansA .; SchmidtP .; OzgaC .;哈特曼G。 HolzapfelX .; EhresmannA .; KnieA.紫外到可见光分散单光子检测可对各种样品中的基本过程进行高度灵敏的检测。材料201811869
机译:用于极端紫外线光刻的电镀反射面罩的制造。