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机译:X射线光电子能谱研究化学气相沉积过程中氧化锡膜生长所涉及的化学过程
Materials innovation institute (M2i), P. O. Box 5008, 2600 GA Delft, The Netherlands and Physical Chemistry of Surfaces, Eindhoven University of Technology, P. O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands;
机译:原位X射线光电子能谱与化学气相沉积产生的石墨烯和氮掺杂石墨烯薄膜的锂相互作用
机译:金属有机化学气相沉积X射线光电子能谱研究砷掺杂ZnO薄膜
机译:金属有机化学气相沉积法生长ZnO薄膜的X射线光电子能谱研究
机译:溅射二氧化铈薄膜的沉积和X射线光电子能谱研究
机译:通过铝的物理气相沉积和等离子体增强的三甲基硅烷化学气相沉积产生的薄膜的原位X射线光电子能谱分析。
机译:电致变色V2O5纳米薄膜的电化学沉积和着色机理:原位X射线光谱研究
机译:X射线光电子能谱研究化学气相沉积过程中氧化锡膜生长所涉及的化学过程
机译:si(100)上乙烯化学气相沉积生长si-C薄膜的X射线光电子能谱研究。