机译:通过反应离子刻蚀的胶体光刻纳米图案
Department of Chemical and Biomolecular Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology, 373-1, Guseong-dong, Yuseong-gu, Daejeon 305-701 Korea;
机译:使用聚焦离子束作为光刻工具和反应性离子蚀刻图案转移,制造用于MEMS原型的纳米间隙
机译:常规光刻和反应离子刻蚀技术产生的一维和二维硅结构的可见光
机译:常规光刻和反应离子刻蚀技术产生的硅纳米结构的光发射
机译:高度金属化聚苯基硅烷的光刻图案化和反应离子蚀刻
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:结合预热和反应离子刻蚀制备的新型胶体光刻纳米图案
机译:结合预热和反应离子刻蚀制备的新型胶体光刻纳米图案
机译:表面上的超分子组装研讨会:纳米图案,功能和反应性。