机译:锡激光产生的等离子体作为极紫外光刻大规模生产的光源:历史,理想的等离子体,现状和前景
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Innovation Center for Advanced Nanodevices, Central 2, 1-1-1, Umezono, Tsukuba Ibaraki, 305-8568, Japan;
机译:激光生产的基于等离子体的极紫外光源技术,用于大批量制造极紫外光刻
机译:用于极端紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体辐射辐射致氢等离子体中的电子密度和温度的时间分辨空间曲线
机译:极紫外光刻光源的激光产生锡等离子体中的带外辐射和等离子体参数的表征
机译:CO_2激光生产的Sn等离子体源,用于大批量生产EUV光刻
机译:Nd:YAG和CO2激光产生的锡等离子体的发射特性,可用于极端紫外光刻源的开发。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:来自锡激光产生的等离子体的极端紫外(EUV)光的高空间分辨率成像板分析
机译:激光产生的等离子体的时间分辨极紫外光谱,源自微球目标的聚对二甲苯层。最终报告,1989年12月13日至1991年2月13日。