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机译:TiO_2紧凑层和ITO纹理对化学沉积和蚀刻工艺DSSC效率提高的影响
Graduate School of Engineering Science and Technology National Yunlin University of Science and Technology Yunlin 64002 Taiwan;
Department of Electronic Engineering National Yunlin University of Science and Technology Yunlin 64002 Taiwan;
Department of Electrical Engineering Da-Yeh University Changhua 51591 Taiwan;
机译:基于DSSC TiO_2光电码的石墨烯电化学沉积过程研究
机译:金属有机化学气相沉积法在织构化的Si(100)晶片上生长TiO_2抗反射层
机译:Al_2O_3 / TiO_2的光学透射率改进通过原子层沉积处理的多层OLED封装膜
机译:基于DSSC TiO_2光电码的石墨烯氧化物电化学沉积过程研究
机译:电化学蚀刻锗和砷化镓形成的多孔层,用于高能效多结太阳能电池的分裂工程层转移(CELT)应用。
机译:在乙烯基封端的聚苯乙烯刷上化学镀有纹理的致密氧化锌薄膜的化学浴沉积
机译:通过化学刻蚀处理形成的新暴露面上的铁(III)离子的位点选择性修饰,提高了金红石型TiO_2纳米棒的可见光响应性。