机译:Al_2O_3 / TiO_2的光学透射率改进通过原子层沉积处理的多层OLED封装膜
Department of Electrical Engineering Ulsan National Institute of Science and Technology Ulsan-si 44919 South Korea;
Department of Electronics and Electrical Engineering Dankook University Suji-gu Yongin-si Gyeonggi-do 16890 South Korea;
Optical transmittance; OLED encapsulation; ALD; TEM; multilayer;
机译:等离子体增强原子层沉积法生长有机发光二极管钝化Al_2O_3 / TiO_2多层薄膜
机译:低温热等离子体原子层联合沉积工艺制备的Al_2O_3薄膜
机译:Al_2O_3薄膜的热性质及其阻挡层对原子层沉积生长TiO_2薄膜的热光性质的影响
机译:温度诱导的原子层沉积生长的TiO_2〜Al_2O_3薄膜双层结构的光学性能变化
机译:薄膜应用的分子工程:区域选择性原子层沉积(ALD)和分子原子层沉积(MALD)。
机译:使用无机/有机杂化层通过原子层沉积进行有机发光二极管的薄膜封装
机译:用于OLED包封的Al2O3 /铝酮纳米胺的低温原子层沉积
机译:利用薄膜原子层沉积处理建立更好的电容器。