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机译:外部未加热玻璃基板上射频磁控溅射铟锡氧化物薄膜的性能
Applied Physics Department, Faculty of Technology & Engineering, M. S. University of Baroda, Vadodara 390001,Gujarat, India;
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机译:外部未加热玻璃基板上射频磁控溅射铟锡氧化物薄膜的性能
机译:通过双直流磁控溅射在未加热的基材上连续沉积层状氧化钛/铟锡氧化物薄膜
机译:射频磁控溅射ZnO掺杂的Zr_(0.8)Sn_(0.2)TiO_(4)薄膜的光学和介电性能及微观结构
机译:衬底温度对直流磁控溅射制备铟锡氧化物薄膜性能的影响
机译:通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌,氧化铟锡和钼薄膜的表征
机译:氧浓度对超薄射频磁控溅射沉积铟锡氧化物薄膜作为光伏器件上电极的性能的影响
机译:多晶TiO 2 sub>使用RF磁控溅射沉积不同厚度的不同厚度的薄膜