机译:硝酸镧缓冲层对Pb(Zr,Ti)O_3厚膜取向和压电性能的影响
School of Materials Science and Engineering, Seoul National University, Seoul, 151-742, Korea;
机译:利用导电硝酸镧镍缓冲层在Pt / Ti / SiO_2 / Si衬底上生长的高取向Pb(Zr,Ti)O_3薄膜的铁电和压电特性
机译:以硝酸镧为缓冲层在玻璃基板上生长的高取向Pb(Zr,Ti)O_3薄膜的电光特性
机译:使用PbTiO_3缓冲层的溶胶-凝胶衍生的Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3厚膜的厚度依赖性电性能
机译:应变增强的PB(Zr_(0.8)Ti_(0.2))O_3 / PB(Zr_(0.2)Ti_(0.8))O_3多层薄膜而无缓冲层的介电和铁电性能
机译:镧锶锰(LA0.67SR0.33MNO3)和锆钛酸铅(PBZR0.52TI0.48O3)薄膜异质结构中的自极化感应磁电耦合
机译:控制性沉积条件下Pb(Zr0.52Ti0.48)O3薄膜的压电响应和玻璃上的纳米片缓冲层
机译:通过沉积条件和玻璃上的纳米片缓冲层控制Pb(Zr0.52Ti0.48)O3薄膜中的压电响应