...
机译:利用导电硝酸镧镍缓冲层在Pt / Ti / SiO_2 / Si衬底上生长的高取向Pb(Zr,Ti)O_3薄膜的铁电和压电特性
School of Materials Science and Engineering, Seoul National University, Seoul 151-742, Korea;
机译:以硝酸镧为缓冲层在玻璃基板上生长的高取向Pb(Zr,Ti)O_3薄膜的电光特性
机译:在Pt / LaNiO_3 / SiO_2 / Si衬底上生长的高度(110)取向的Pb(Zr_(0.40)Ti_(0.60))O_3薄膜的铁电和热电性质
机译:具有特殊Pb(zr_(0.2),ti_(0.8))o_3的高度(100)取向的0.67pb(mg_(1/3)nb_(2/3))o_3-0.33pbtio_3薄膜的增强铁电和介电性能/ pbo_x双层缓冲层
机译:PB的铁电和存储器性能(Zr_(0.30)Ti_(0.70))O_3薄膜通过热等静压在PBTIO_3 / Pt / SiO_2 / Si基板上结晶
机译:镧锶锰(LA0.67SR0.33MNO3)和锆钛酸铅(PBZR0.52TI0.48O3)薄膜异质结构中的自极化感应磁电耦合
机译:在高度c轴取向的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3薄膜中具有超低应变滞后的大压电应变并且在非晶玻璃基板上呈柱状生长
机译:具有TiN缓冲层的si(001)衬底上(001)取向的pb(Zr0.52Ti0.44)O3 / LaNiO 3薄膜的生长和性质