机译:LPE缓冲层对升华生长的4H-SiC外延层的结构影响
IFM Material Science Division, Department of Physics and Measurement Technology, Linkoeping University, SE-581 83 Linkoeping, Sweden;
A1. epilayers; A1. synchrotron white beam X-ray topography; A1. X-ray diffraction; A3. liquid phase epitaxy; B1. SiC;
机译:通过升华生长的He〜+辐照的基于4H-SiC外延层的Ni肖特基二极管的特性
机译:AlN缓冲层对等离子辅助分子束外延生长在Al_2O_3衬底上GaN外延层的结构和光学性能的影响
机译:在LPE缓冲器上生长的4H-SIC升华血管层中的缺陷演变,细微微皮层密度降低
机译:通过高压化学气相沉积和ZGP单晶的高压化学气相沉积和振动研究生长的氮化铟外膜的光学和结构性
机译:氢化物气相外延生长在AlN纳米图案蓝宝石模板上的AlGaN外延层的结构和应力特性
机译:在阶梯式4H-siC衬底上生长的纤锌矿GaN外延层中的浅光学活性结构缺陷