机译:用于AlGaN / GaN HEMT的掺铍GaN缓冲层的分子束外延
Naval Research Laboratory, Electronics Science and Technology Division, Code 6852, 4555 Overlook Avenue, S. W., Washington, DC 20375-5347, USA;
A1. doping; A3. molecular beam epitaxy; B1. nitrides; B3. high electron mobility transitors;
机译:直径为6英寸的Si衬底金属-有机气相外延系统上的高生长速率AlGaN缓冲层和用于AlGaN / GaN HEMT的低碳GaN的大气压生长
机译:具有C掺杂GaN缓冲层作为通过分子束外延生长的电隔离模板的AlGaN / GaN场效应晶体管
机译:掺杂铍的GaN缓冲层对外延AlGaN / GaN异质结构的电子性能的影响
机译:用于AlGaN / GaN HEMT的掺铍GaN缓冲层的分子束外延
机译:等离子体辅助分子束外延的Inn / GaN多量子孔的生长和行为
机译:使用AlGaN / GaN / AlGaN量子阱电子阻挡层的AlGaN / GaN HEMT中的高击穿电压
机译:RF等离子体辅助分子束外延在中温GaN缓冲层上生长的高迁移率GaN外延层
机译:铍掺杂GaN缓冲层对外延alGaN / GaN异质结构电子性质的邻近效应