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【24h】

Study of InGaAsP and GaInP layers grown by MOCVD in pure N-2 ambient for InGaAsP/GaAs single QW LD structures

机译:在纯N-2环境下通过MOCVD生长的InGaAsP和GaInP层的研究,用于InGaAsP / GaAs单量子阱LD结构

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摘要

InGaAsP and GaInP layers has been grown by MOCVD technique using tertiarybutylarsine and tertiarybutylphosphine in pure nitrogen ambient for fabrication of InGaAsP/GaAs single QW laser diode structures. The composition control and the temperature dependence of the optical quality of In1-xGaxAsyP1-y layers and the Si- and Zn-doping behaviors in GaInP layers are emphatically discussed. (C) 2004 Elsevier B.V. All rights reserved.
机译:InGaAsP和GaInP层已经通过MOCVD技术在纯氮环境中使用叔丁基s和叔丁基膦进行生长,以制造InGaAsP / GaAs单量子阱激光二极管结构。着重讨论了In1-xGaxAsyP1-y层的光学质量的成分控制和温度依赖性以及GaInP层中的Si和Zn掺杂行为。 (C)2004 Elsevier B.V.保留所有权利。

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