机译:通过插入超薄GaAs和GaP中间层在1.55μm波长范围内发射的InAs / InP量子点
Eindhoven Univ Technol, eiTT COBRA Inter Univ Res Inst, NL-5600 MB Eindhoven, Netherlands;
low-dimensional structures; chemical beam epitaxy; semiconducting III-V materials; VAPOR-PHASE EPITAXY; BEAM EPITAXY; SURFACE; INP;
机译:通过插入亚单层GaP中间层在1.55μm波长范围内发射的InAs / InP量子点
机译:InAs / InP(311)B量子点中以1.55μm波长发射的光吸收的定量研究
机译:波长可调(1.55μm区域)InAs / InGaAsP / InP(100)量子点的堆叠,偏振控制和激光发射
机译:在GaAs衬底上具有InAs-InGaAs量子点有源区的垂直腔表面发射激光器,发射速率为1.3 / spl mu / m
机译:InAlGaAs / InP发光晶体管和晶体管激光器工作在1.55微米附近。
机译:1.55 µm InAs / GaAs量子点和高重复率量子点SESAM锁模激光器
机译:通过插入亚单层GaP中间层在1.55μm波长范围内发射的InAs / InP量子点
机译:sp3s和sp3d5s Gaas,aIa,Inas,Gasb,aIsb,Insb,Gap,aIp,Inp的紧束缚参数集,用于量子点模拟