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机译:C面氧化锌衬底上氮化铟膜的分子束外延生长
NIMS, Tsukuba, Ibaraki 3050044, Japan;
Tokyo Univ Sci, Fac Ind Sci & Technol, Noda, Chiba 2788510, Japan;
substrates; molecular beam epitaxy; nitride; semiconducting III-V materials; ZNO SINGLE-CRYSTALS; THIN-FILMS; OPTICAL-PROPERTIES; HETEROEPITAXIAL GROWTH; ELECTRICAL-PROPERTIES; BUFFER LAYER; WURTZITE INN; GAN; QUALITY; TEMPERATURE;
机译:电子回旋共振等离子体辅助分子束外延对Si(111)衬底上生长的六角形InN晶体薄膜中残余氧杂质,立方氧化铟晶粒和氮氧化铟合金晶粒的影响
机译:氧化锌c面上生长的氮化铟薄膜的结晶度和极性
机译:金属有机分子束外延在氧化物缓冲层上生长的氮化铟膜的光致发光研究
机译:氧化锌薄膜的电气和光学性能和分子束外延制备的重氧化铝掺杂氧化锌薄膜
机译:通过反应分子束外延和材料表征,在蓝宝石衬底上生长纤锌矿型氮化镓外延膜。
机译:RF-等离子体辅助氧化物分子束外延生长在石英玻璃基板上的VO2热致变色膜
机译:通过使用分子束外延装置直接在非单晶基板上直接生长的III族氮化物薄膜的一些性质