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机译:基于两波段k·p理论的超薄硅膜中电子子带的色散
Institute for Microelectronics, TU Vienna, Gusshausstr. 27-29, 1040 Vienna, Austria;
k·p method; device simulation; subband structure; quantum transport; monte carlo method;
机译:硅薄体Soi Fets中的电子子带结构和可控制的波谷分裂:两带K。 P理论及超越
机译:结合到(001)硅晶片上的超薄(001)硅膜的结构表征:透射电子显微镜研究
机译:Hensel-Hasegawa-Nakayama模型中的应变硅UTB薄膜中的电子子带结构-第2部分k?的有效自洽数值解薛定inger方程
机译:约束和应力对超薄硅膜子带参数的影响
机译:银(001)和银(111)上超薄外延铬和氧化铁膜的生长和结构:通过X射线光电子衍射和低能电子衍射完成的综合研究。
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机译:空间分辨价电子能量损失谱成像中氮化硅晶间薄膜的分散力和Hamaker常数