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InP metal‐insulated‐semiconductor Schottky contacts using surface oxide layers prepared with bromine water

机译:使用溴水制备的表面氧化物层的InP金属绝缘半导体肖特基接触

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摘要

Oxide layers prepared with bromine water are found to increase the barrier height for Au‐InP Schottky diodes. Electrical characteristics are measured and the relationships between the preparation conditions and the diode parameters are examined. The typical value of the barrier height and the ideality factor are 0.83 eV and 1.1, respectively. Some instabilities are observed in the diode characteristics.
机译:发现用溴水制备的氧化物层会增加Au-InP肖特基二极管的势垒高度。测量电气特性,并检查制备条件和二极管参数之间的关系。势垒高度的典型值和理想因子分别为0.83 eV和1.1。在二极管特性中观察到一些不稳定性。

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  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |1980年第9期|P.4905-4907|共3页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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